EUV露光用フォトマスクブランクス
最先端半導体製造に必要な“ブランクス”を、ガラス材料から膜材料まで一貫して製造しています。ブランクス製造に必要な生産技術や次世代ブランクスに要求されるガラス・膜などの材料開発も行っています。
使用用途
- EUV露光装置用マスクブランクス
特徴
低膨張ガラス生産技術、超高平坦度研磨技術、超精密洗浄技術、高精度・低欠陥成膜技術、微小欠陥検査・評価技術、分析・解析技術等、様々なテクノロジーを用い、今後の半導体産業の発展に貢献していきます。
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